多層電路板制造過程，目前多是減成法，即將原材料覆銅板上的多余銅箔減去形成導(dǎo)電圖形。減去之法多是用化學(xué)腐蝕，最經(jīng)濟(jì)且高效率。只是化學(xué)腐蝕無差別攻擊，故需對(duì)所需之導(dǎo)電圖形進(jìn)行保護(hù)，要在導(dǎo)電圖形上涂覆一層抗蝕劑，再將未保護(hù)之銅箔腐蝕減去。早期之抗蝕劑是以絲網(wǎng)印刷方式將抗蝕油墨以線路形式印刷完成，故稱“印制電路板（printed circuit）”。只是隨著電子產(chǎn)品越來越精密化，印制線路的圖像解析度無法滿足產(chǎn)品需求，繼而引用光致抗蝕劑作為圖像解析材料。光致抗蝕劑是一種感光材料，對(duì)一定波長(zhǎng)的光源敏感，與之形成光化學(xué)反應(yīng)，形成聚合體，只需使用圖形底片對(duì)圖形進(jìn)行選擇性曝光后，再通過顯影液（例1%碳酸鈉溶液）將未聚合之光致抗蝕劑剝除，即形成圖形保護(hù)層。

在目前的多層電路板制造過程中，還有層間導(dǎo)通功能是通過金屬化孔來實(shí)現(xiàn)的，故PCB制作過程中還需進(jìn)行鉆孔作業(yè)，并對(duì)孔實(shí)現(xiàn)金屬化電鍍作業(yè)，最終實(shí)現(xiàn)層間導(dǎo)通。

多層電路板制造過程以常規(guī)六層PCB的制作流程簡(jiǎn)言之：

一、先做兩塊無孔雙面板

開料（原材雙面覆銅板）-內(nèi)層圖形制作（形成圖形抗蝕層）-內(nèi)層蝕刻（減去多余銅箔）

二、將兩張制作好的內(nèi)層芯板用環(huán)氧樹脂玻纖半固化片粘連壓合

將兩張內(nèi)層芯板與半固化片鉚合，再在外層兩面各鋪上一張銅箔用壓機(jī)在高溫高壓下完成壓制，使之粘連結(jié)合。關(guān)鍵材料為半固化片，成分與原材相同，也是環(huán)氧樹脂玻纖，只是其為未完全固化態(tài)，在7-80度溫度下會(huì)液化，其中添加有固化劑，在150度時(shí)會(huì)與樹脂

交聯(lián)反應(yīng)固化，之后不再可逆。通過這樣一個(gè)半固態(tài)-液態(tài)-固態(tài)的轉(zhuǎn)化，在高壓力下完成粘連結(jié)合。

三、常規(guī)雙面板制作

鉆孔-沉銅板電（孔金屬化）-外層線路（形成圖形抗蝕層）-外層蝕刻-阻焊（印刷綠油，文字）-表面涂覆（噴錫，沉金等）-成形（銑切成形）。

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